SGN納米材料原位聚合法高速分散機(jī)可以處理量大，運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，無死角，物料100通過分散剪切。

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。

原位聚合法，顧名思義，就是把反應(yīng)單體填充到納米層狀物的層間，讓其在層間發(fā)生聚合反應(yīng)

原位聚合法原理原位聚合是一種把反應(yīng)性單體(或其可溶性預(yù)聚體)與催化劑全部加入分散相(或連續(xù)相)中,芯材物質(zhì)為分散相。由于單體(或預(yù)聚體)在單一相中是可溶的,而其聚合物在整個(gè)體系中是不可溶的,所以聚合反應(yīng)在分散相芯材上發(fā)生。反應(yīng)開始,單體預(yù)聚,預(yù)聚體聚合,當(dāng)預(yù)聚體聚合尺寸逐步增大后,沉積在芯材物質(zhì)的表面

如納米二氧化硅 即在位分散聚合，該法是應(yīng)用在位填充技術(shù)，將納米SiO2在單體中分散均勻后，再進(jìn)行聚合反應(yīng)，原位聚合法的特點(diǎn)是既能使納米SiO2粒子均勻分在聚合物中，又保持了粒子的納米屬性，而且原位聚合法通常是一次聚合成型，無需進(jìn)一步熱加工，因此避免了熱加工帶來降解的影響，保證了納米SiO2-聚合物基體的各種性能的穩(wěn)定。

SGN納米材料原位聚合法高速分散機(jī)分散效果

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是最重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設(shè)備,